Feb
03

High dan Low Current Density di Electroplating

By

Low Current Density (LCD) dan High Current Density adalah istilah yang sering digunakan dalam electroplating.

Low Current Density adalah area permukaan plating dimana arus litrik yang bekerja paling rendah dibanding area permukaan lain.

High Current Density kebalikan dari Low Current Density, yaitu rapat arus listrik (ampere/decimeterpersegi)  yang bekerja pada permukaan tersebut paling tinggi.

Untuk lebih jelasnya bisa disaksikan di Video ini :

Pengetahuan tentang area LCD dan HCD, sangat penting bagi praktisi plating. Terutama untuk Plating yang mempunyai range antara LCD dan HCD sangat pendek, seperti Chrom Plating.

Dengan mengetahui area LCD dan HCD, kita bisa mengatur posisi anoda,  posisi barang, komposisi larutan, kandungan aditif, dan mengatur Volt, sehingga proses pelapisan lebih rata, sehingga dapat mempersingkat waktu plating.

Untuk Chrom PLating, yang mempunyai range area HCD dan LCD yang pendek, sangat diperlukan pengalaman agar semua area plating bisa terlapisi, sehingga warna kuning dari nickel bisa tertutup dengan baik. Hal ini juga mempengaruhi ketahanan karat dari lapisan nickel-chrom plating.

Categories : Artikel, Electroplating

Leave a Comment

Add to Technorati Favorites